Produkteinführung:
Objektiv und Blende lassen sich motorisch schalten und ermöglichen so eine komfortablere und effizientere Bedienung. Ausgestattet mit einem 12 Zoll großen, beweglichen Objekttisch bietet das System optimale Bedingungen für die Inspektion von Halbleitern und Flachbildschirmen. Es unterstützt eine Vielzahl von Beobachtungsmethoden, darunter Hellfeld, Dunkelfeld, Polarisationsmikroskopie und DIC (Differential Interference Contrast), und bietet Ihnen somit die passende Lösung für Ihre individuellen Anforderungen.
Parameterformular:
Parameter
Optisches System
Unendlich
y
C
olor-
C
richtig
O
ptical
S
System
Beobachtungsrohr
Hellfeld / Dunkelfeld / Polarisation / DIC
Unendlichkeit
H
inge
T
Ringokular
T
ube, 0-35° Neigung
A
verstellbar,
e
Rechteck
ich
Magier
Interpupillar
D
Abstand: 50-76 mm
Reflektierend
S
tand:
ich
geneigt
e
ergonomisch
C
oaxial
C
Ruder/
F
ine
F
Verursachung
k
Nobs
Grob
S
Hub: 35 mm, Fein
F
Ocus
ich
Schrittweite: 0,001 mm
Ausgestattet mit
A
Antirutsch
T
Spannung
A
Anpassung und
P
Arallax
S
Spitze
M
Mechanismus. Eingebauter 100-240V-Schalter.
w
ide
v
Lager
S
System
Durchgelassen/Reflektiert
S
tand:
ich
geneigt
e
ergonomisch
C
oaxial
C
Ruder/
F
ine
F
Verursachung
k
Nobs
Grob
S
Hub: 35 mm, Fein
F
Ocus
ich
Schrittweite: 0,001 mm
Ausgestattet mit
A
Antirutsch
T
Spannung
A
Anpassung und
P
Arallax
S
Spitze
M
Mechanismus. Eingebauter 100-240V-Schalter.
w
ide
v
Lager
S
System
Handbuch
S
Tag:
R
Licht-
H
und 14×12
ich
nch
T
drei-
l
ayer
M
mechanisch
S
Tag mit
l
ow-
P
Profil
C
oaxial X/Y
C
Kontrollen
P
Plattform
D
Abmessungen: 710 mm × 420 mm
T
verwickeln
R
Winkel: 356 mm × 305 mm
Ausgestattet mit
C
Kupplung
H
Andle für
R
apid
M
Bewegung; Reflektierend
S
und beinhaltet
M
etal
P
Plattform, Durchgelassen/Reflektiert
S
und beinhaltet
G
las
S
P
Plattform
Motorisiert
S
Tag:
Abmessungen: 495 mm × 641 mm, Reise
R
Winkel: 306 mm × 306 mm; Softwaregesteuerte X/Y-Achse
M
Bewegung, Wiederholbarkeit
A
Genauigkeit: (3+L/50)μm
Ausgestattet mit
F
lat
P
Plattform
Hellfeld/Dunkelfeld
R
reflektierend
ich
Beleuchtungsgerät mit
M
otorisiert
v
variabel
A
Perture
D
Zwerchfell und
F
Feld
D
Zwerchfell (
B
beide
C
einführbar)
Ausgestattet mit
B
rechtes Feld/
D
Arkfield
ich
Beleuchtung
S
Hexerei
M
Mechanismus
Beinhaltet
F
Filter
S
Lider und
P
Solarisierung
S
viele
Polarisator
S
Anführer
F
fixiert
A
Analysator
S
Anführer
ich
Interferenz
F
Filter
S
et für
R
Reflexion;
Hochpräzision
M
Mikrometer
DIC
C
Komponenten
Beobachtungsrohr
Okular
Höhepunkt
e
Yepoint
w
Idefield
P
Ian
e
yepiece PL10X/25mm,
D
iopter
A
verstellbar,
O
optional
S
eing
S
cale
C
Ross
R
Etikett
Objektiv
Unendlichkeit
B
rechtes Feld/
D
Arkfield
S
emi-
A
pochromatisch
M
etallurgische DIC
O
Zielwerte (5X, 10X, 20X, 50X, 100X)
Unendlichkeit
l
ong
w
arbeiten
D
Instanz (LWD)
B
rechtes Feld/
D
Arkfield
S
emi-
A
pochromatisch
M
etallurgische DIC
O
Ziel 20X
Unendlichkeit
l
ong
w
arbeiten
D
Instanz (LWD)
B
rechtes Feld/
D
Arkfield
S
emi-
A
pochromatisch
M
etallurgisch
O
Ziele (50X, 100X)
Nasenstück
6-Position
M
otorisiert
B
rechtes Feld/
D
Arkfield
N
Ospiece mit DIC
S
viel
Standgruppe
Bühne
Beleuchtungssystem
Bildgebungssystem
0,35x/0,5x/0,65x/1x C-Mount
C
Amerika
A
Adapter,
F
Ocus
A
verstellbar
Andere
Maschinenausstellung:
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