Produkteinführung: Ausgestattet mit einem neuen Betriebssystemmechanismus und ergonomischem Design zur Minimierung der Ermüdung des Bedieners. Der modulare Komponentenaufbau ermöglicht die freie Kombination von Systemfunktionen und erfüllt so die hohen Anforderungen der industriellen Inspektion und metallurgischen Analyse. Parameterformular: Parameter Optisches System Unendlichkeit C olor- C richtig O ptical S System O Beobachtungsrohr 30° ich geneigt, e Rechteck ich Magier ich Unendlichkeit T Ringokular T Ube Interpupillenabstand: 50-76 mm Lichtteilungsverhältnis: 100:0 oder 0:100 (Unterstützt 25/26,5 mm Sichtfeld) 30° ich geneigt, ich umgewandelt ich Magier ich Unendlichkeit T Ringokular T Ube Interpupillenabstand: 50-76 mm Lichtteilungsverhältnis: 0:100; 20:80; 100:0 (Unterstützt 25/26,5 mm Sichtfeld) 5-35° A verstellbar ich Neigung, e Rechteck ich Magier ich Unendlichkeit T Ringokular T Ube Interpupillenabstand: 50-76 mm Dioptrieneinstellung: ±5 dpt (einseitig) Lichtteilungsverhältnis: 100:0 oder 0:100 (Unterstützt 22/23/16 mm Sichtfeld) Okular Höhepunkt w ide-field P Ian e yepiece PL10X/22mm Mikrometerkompatibel, Dioptrieneinstellung (optional) Höhepunkt w ide-field P Ian e yepiece PL10X/23mm Dioptrien einstellbar Höhepunkt w ide-field P Ian e yepiece PL10X/2 5 mm Dioptrie adj brauchbar, R etikelkompatibel (abgestuftes Fadenkreuz) Höhepunkt w ide-field P Ian e Yepiece PL10X/26,5 mm Dioptrien einstellbar, R etikelkompatibel (abgestuftes Fadenkreuz) Höhepunkt w ide-field P Ian e Yepiece PL15X/16mm Objektiv Lang w arbeiten D Instanz (LWD) P Ian B Rechts/ D Arkfield A chromatisch M etallurgisch O Ziele Vergrößerung: 5x, 10x, 20x, 50x, 100x Infinity LWD P Ian B Rechts/ D Arkfield Halb-Apochromatisch M etallurgisch O Ziele Vergrößerung: 5x, 10x, 20x, 50x, 100x Ultralang w arbeiten D istance (ULWD) B Rechts/ D Arkfield S emi- A pochromatisch O Zielsetzung Vergrößerung: 20x Fokussierungsmechanismus Gespiegelt l Licht S tand, l Unterposition C oaxial C Ruder/ F ine F Verursachung Grobfokussierweg: 33 mm Feine Fokussiergenauigkeit: 0,001 mm Merkmale: A Einstellung der Antirutsch-Spannung und oberer Anschlag für Grobfokussierung Stromversorgung: Integriertes 100-240V Weitspannungssystem mit Helligkeitseinstellung Bühne 6-Zoll-3-lagig M mechanisch S Tag Koaxiale X/Y-Einstellung in niedriger Position Abmessungen: 445 mm × 240 mm Reichweite ( R reflektiert: 158 mm × 158 mm Verfahrweg (übertragen): 100 mm × 100 mm Merkmale: Kupplungsgriff für schnelle Bewegung; Glastischplatte (durchscheinend/reflektierend) Beleuchtungssystem 12 V 100 W H Alogen l Ampere Hell-/Dunkelfeld R reflektiert l Licht ich Beleuchtungsgerät Merkmale: Variable Blendenöffnung, Feldblende (beide zentrierbar) Hell-/Dunkelfeld-Umschaltvorrichtung Filter- und Polarisationsschlitz inklusive Fotografie & Bildbearbeitung 0,35x / 0,5x / 0,65x / 1x C - M Menge C Amerika A Adapter Fokus einstellbar Sonstiges / Zubehör Polarisationsschieber Fester Analysatorschieber / 360° drehbarer Analysatorschieber Interferenzfiltersatz ( R reflektiert) Hochpräzisionsmikrometer DIC ( D differentielle Interferenz C im Gegensatz dazu) C Komponenten Maschinenausstellung:

Produkteinführung: Objektiv und Blende lassen sich motorisch schalten und ermöglichen so eine komfortablere und effizientere Bedienung. Ausgestattet mit einem 12 Zoll großen, beweglichen Objekttisch bietet das System optimale Bedingungen für die Inspektion von Halbleitern und Flachbildschirmen. Es unterstützt eine Vielzahl von Beobachtungsmethoden, darunter Hellfeld, Dunkelfeld, Polarisationsmikroskopie und DIC (Differential Interference Contrast), und bietet Ihnen somit die passende Lösung für Ihre individuellen Anforderungen. Parameterformular: Parameter Optisches System Unendlich y C olor- C richtig O ptical S System Beobachtungsrohr Hellfeld / Dunkelfeld / Polarisation / DIC Beobachtungsrohr Unendlichkeit H inge T Ringokular T ube, 0-35° Neigung A verstellbar, e Rechteck ich Magier Interpupillar D Abstand: 50-76 mm Strahl S Teilung R atio: 100:0 oder 0:100 Okular Höhepunkt e Yepoint w Idefield P Ian e yepiece PL10X/25mm, D iopter A verstellbar, O optional S eing S cale C Ross R Etikett Objektiv Unendlichkeit B rechtes Feld/ D Arkfield S emi- A pochromatisch M etallurgische DIC O Zielwerte (5X, 10X, 20X, 50X, 100X) Unendlichkeit l ong w arbeiten D Instanz (LWD) B rechtes Feld/ D Arkfield S emi- A pochromatisch M etallurgische DIC O Ziel 20X Unendlichkeit l ong w arbeiten D Instanz (LWD) B rechtes Feld/ D Arkfield S emi- A pochromatisch M etallurgisch O Ziele (50X, 100X) Nasenstück 6-Position M otorisiert B rechtes Feld/ D Arkfield N Ospiece mit DIC S viel Standgruppe Reflektierend S tand: ich geneigt e ergonomisch C oaxial C Ruder/ F ine F Verursachung k Nobs Grob S Hub: 35 mm, Fein F Ocus ich Schrittweite: 0,001 mm Ausgestattet mit A Antirutsch T Spannung A Anpassung und P Arallax S Spitze M Mechanismus. Eingebauter 100-240V-Schalter. w ide v Lager S System Durchgelassen/Reflektiert S tand: ich geneigt e ergonomisch C oaxial C Ruder/ F ine F Verursachung k Nobs Grob S Hub: 35 mm, Fein F Ocus ich Schrittweite: 0,001 mm Ausgestattet mit A Antirutsch T Spannung A Anpassung und P Arallax S Spitze M Mechanismus. Eingebauter 100-240V-Schalter. w ide v Lager S System Bühne Handbuch S Tag: R Licht- H und 14×12 ich nch T drei- l ayer M mechanisch S Tag mit l ow- P Profil C oaxial X/Y C Kontrollen P Plattform D Abmessungen: 710 mm × 420 mm T verwickeln R Winkel: 356 mm × 305 mm Ausgestattet mit C Kupplung H Andle für R apid M Bewegung; Reflektierend S und beinhaltet M etal P Plattform, Durchgelassen/Reflektiert S und beinhaltet G las S P Plattform Motorisiert S Tag: Abmessungen: 495 mm × 641 mm, Reise R Winkel: 306 mm × 306 mm; Softwaregesteuerte X/Y-Achse M Bewegung, Wiederholbarkeit A Genauigkeit: (3+L/50)μm Ausgestattet mit F lat P Plattform Beleuchtungssystem Hellfeld/Dunkelfeld R reflektierend ich Beleuchtungsgerät mit M otorisiert v variabel A Perture D Zwerchfell und F Feld D Zwerchfell ( B beide C einführbar) Ausgestattet mit B rechtes Feld/ D Arkfield ich Beleuchtung S Hexerei M Mechanismus Beinhaltet F Filter S Lider und P Solarisierung S viele Bildgebungssystem 0,35x/0,5x/0,65x/1x C-Mount C Amerika A Adapter, F Ocus A verstellbar Andere Polarisator S Anführer F fixiert A Analysator S Anführer ich Interferenz F Filter S et für R Reflexion; Hochpräzision M Mikrometer DIC C Komponenten Maschinenausstellung: